本发明涉及一种真空炉内渗碳零件的控制方法。当碳载体的烃类气体通入真空炉时，可以用这种方法进行控制。分别在真空和负压下进行渗碳是众所周知的。烃类气体可用作气体渗碳剂，甲烷是最常用的一种。炉子中的几种气体成分是已知的，例如ch '和N:，或CH'+CO，N:和H:。在这些方法中，由于气体和渗碳钢所需的碳量之间没有化学平衡，所以必须采取措施来供应气体中过量的碳，例如通过供应0H4。这种必需的过量烃气体供应有一个缺点，即在反应过程中游离碳在到达钢表面之前就产生了。比如甲烷的反应，CH' = C+ZH:这个游离碳产生了炭黑，随着浓度的增加，这个炭黑就变成了炭黑云。它有两个缺点:一是阻碍渗碳；第二，它污染渗碳部件和炉子。另外，电加热炉有短路的危险。为了减少炭黑，供应到真空炉的烃气体的量通过固定脉冲或根据量和时间或多或少调节的脉冲来控制。然而，这种方法不能得到有效的结果，并且在形成一定的渗碳层深度和一定的边界碳含量方面存在一些缺点，即为了获得与炭黑形成相关的更好的综合效果，需要通过实验来确定针对大多数不同渗碳零件的脉冲程序。所以只是在不同的条件下进行大量的实验。